型號:Kylin PW1000
適用制程
適用于半導體制程(CVD/PVD/ETCH/DIFF)和面板行業
對全氟化碳(PFC)氣體處理的效果卓越
全新系統設計
等離子弧火焰超過3000℃,可以高效處理PFC氣體
低耗電量,等離子電源能耗可根據應用制程進行調節
Plasma反應腔
耐腐蝕材料應用提高了部件的使用壽命
反應腔采用水冷
可維護性、安全性增強
PLC安全互鎖系統
煙感、門禁、漏液等互鎖裝置保證機臺安全穩定運行
部件模塊化設備便于拆裝維護
高利用效率
高流量以及多進口設計,可以連接多個制程工藝
較小的占地面積